超純水的“超純”不僅遠超日常飲用水，更顯著區別于醫藥行業的“純化水”或實驗室“去離子水”。其近乎“本征”的純凈度使其成為現代高精尖產業不可或缺的原材料。

核心指標包括：

1、電阻率：25℃下達到18.25 MΩ·cm（極限理論值），實際應用中要求≥18.0 MΩ·cm，表明其導電離子幾乎被完全去除。

2、顆粒物控制：≤100個/L（要求每升水中，符合特定尺寸條件的顆粒物數量不能超過100個。對于特定尺寸如≥0.05 μm（直徑0.05微米）的顆粒要求更高。

3、溶解氧：低至ppb級或更低。

4、微生物：<1 CFU/100mL（每100毫升樣品中微生物少于1個真菌計量的單位：CFU）或趨向于“零”（零微生物）。

5、特定離子濃度：如硅、鈉、氯離子、硫酸根等被控制在極低ppb或ppt（萬億分之一）級。

其關鍵應用領域便是半導體與集成電路制造中的晶圓清洗：超純水必須在數十甚至數百次清洗中去除細微顆粒、金屬離子、有機殘留等污染物，避免導致線路短路、斷路或影響器件性能。

其次便是平板顯示行業：用于TFT-LCD、OLED玻璃基板的清洗與蝕刻工藝。屏幕越大，缺陷容忍度越低，對超純水的潔凈度要求越高，對顆粒尤其是納米級顆粒、TOC、金屬離子的控制極其嚴格。